本文件描述了用透射电子显微镜/扫描透射电子显微镜测定薄晶体试样厚度的会聚束电子衍射方法。本文件适用于测定线度为几十纳米至几百微米、厚度在几十纳米至几百纳米范围内的薄晶体试样厚度。注： 由于透射电子显微镜薄试样的厚度往往不均匀，用会聚束衍射方法测定的是试样被电子束照明区的局域厚度。
太阳城 号：GB/T 20724-2021
太阳城 名称：微束分析　薄晶体厚度的会聚束电子衍射测定方法
英文名称：Microbeam analysis—Method of thickness measurement for thin crystals by convergent beam electron diffraction
替代以下太阳城 ：GB/T 20724-2006
引用太阳城 ：GB/T 18907-2013 GB/T 27418-2017 ISO 15932:2013
起草人：柳得橹、娄艳芝
起草单位：北京科技大学、中国航发北京航空材料研究院
归口单位：全国微束分析太阳城 化技术委员会(SAC/TC 38)