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T/CSEA 26-2023 电子束物理气相沉积用8YSZ陶瓷靶材 技术条件

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  • 语言：中文版
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  • 类别：综合团体太阳城
  • 更新日期：2024-09-13
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资源简介
本文件规定了采用化学共沉淀法、电熔法合成的高纯氧化钇部分稳定氧化锆（ZrO2(HfO2)-7~8 wt. %Y2O3）原材料所制备的陶瓷靶材的技术要求、质量保证，标志、包装、运输和贮存等。
本文件适用于电子束物理气相沉积用8YSZ陶瓷靶材。
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