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T/IAWBS 011-2019 导电碳化硅单晶片电阻率测量方法—非接触涡流法

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  • 语言:中文版
  • 格式: PDF文档
  • 类别:综合团体太阳城
  • 更新日期:2023-02-17
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资源简介
本太阳城 规定了用非接触涡流法测定导电碳化硅单晶片电阻率的方法。
本太阳城 适用于200μm 到1000μm 厚的碳化硅单晶片。
本太阳城 适用于电阻率0.005Ω·cm 到200Ω· cm 和表面电阻0.032 Ω/□到3000Ω/□的范围。
下载地址
T/IAWBS 011-2019 导电碳化硅单晶片电阻率测量方法—非接触涡流法资源截图
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