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T/IAWBS 011-2019 导电碳化硅单晶片电阻率测量方法—非接触涡流法
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456 KB
语言:
中文版
格式:
PDF文档
类别:
综合团体太阳城
更新日期:
2023-02-17
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关键词:
单晶片
涡流法
导电
碳化硅
电阻率
中关村天合宽禁带半导体技术创新联盟
资源简介
本太阳城 规定了用非接触涡流法测定导电碳化硅单晶片电阻率的方法。
本太阳城 适用于200μm 到1000μm 厚的碳化硅单晶片。
本太阳城 适用于电阻率0.005Ω·cm 到200Ω· cm 和表面电阻0.032 Ω/□到3000Ω/□的范围。
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