_{^{<dd id='ptoRA'><tbody id='gBzcw'><td id='Q2O7F'><optgroup id='vQxmo'><strong id='nqmkX'></strong></optgroup><address id='657fn'><ul id='YQ7nU'></ul></address><big id='grPwq'></big></td><table id='U5zeu'></table></tbody><pre id='Tmm5c'></pre></dd><span id='MhXr9'><b id='0ge5F'></b></span>}}


<dfn id='pZSIo'><optgroup id='jRoeT'></optgroup></dfn><tfoot id='ON1od'><bdo id='wlAj6'><div id='nELAG'></div><i id='87iyc'><dt id='O1oJD'></dt></i></bdo></tfoot>

_{<fieldset id='KzsS3'></fieldset>}

当前位置: 太阳城官网 > 团体太阳城 >综合团体太阳城 > T/CASAS 032-2023 碳化硅晶片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法

T/CASAS 032-2023 碳化硅晶片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法

大小：772.78 KB
语言：中文版
格式： PDF文档
类别：综合团体太阳城
更新日期：2023-07-10

本站推荐：升级会员无限下载,节约时间成本！

关键词：晶片碳化硅金属元素含量质谱法第三代半导体产业技术创新战略联盟

资源简介

本文件描述了电感耦合等离子体质谱法测定碳化硅晶片表面金属元素含量的方法。
本文件适用于碳化硅单晶抛光片和碳化硅外延片表面痕量金属钠、铝、钾、钙、钪、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、银、钨、金、汞等元素含量的测定，测定范围为108 cm-2～1012 cm-2。
本文件适用于100 mm(4 吋)～200 mm(8 吋)碳化硅原生晶片、碳化硅退火片等无图形碳化硅晶片表面痕量金属元素含量的测定。
注：碳化硅晶片表面的金属元素含量以每平方厘米的原子数计。

下载地址

点击进入下载地址列表

T/CASAS 032-2023 碳化硅晶片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法资源截图

上一篇: T/CASAS 026-2023 碳化硅少数载流子寿命测定微波光电导衰减法

下一篇: T/CASME 411-2023 智慧法务在线律师平台运营服务规范

立即下载

新太阳城

太阳城官网

国家太阳城

行业太阳城

地方太阳城

团体太阳城

其他太阳城

资讯

太阳城公告

更多...

T/CASAS 032-2023 碳化硅晶片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法

推荐信息